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2025-03-26 16:37:06來源:智能制造網(wǎng) 關(guān)鍵詞:DUV光刻全固態(tài)DUV光源技術(shù)半導體工藝閱讀量:26074
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早報|全球最大具身智能數(shù)據(jù)工廠在天津啟用;Rapidus攜手西門子推進2nm半導體工藝開發(fā)
6月23日,全球最大的“帕西尼具身智能超級數(shù)據(jù)工廠”在天津河西區(qū)空天數(shù)字產(chǎn)業(yè)園正式投運;日本先進邏輯半導體制造商Rapidus近日宣布,與西門子數(shù)字化工業(yè)軟件達成戰(zhàn)略合作,共同開發(fā)面向2nm世代的半導體設(shè)計與制造工藝......能生產(chǎn)3nm!中科院成功研發(fā)全固態(tài)DUV光源技術(shù):完全不同于ASML
中科院的固態(tài)DUV激光技術(shù)完全基于固態(tài)設(shè)計,由自制的Yb:YAG晶體放大器生成1030nm的激光,在通過兩條不同的光學路徑進行波長轉(zhuǎn)換。臺積電第一家日本工廠下半年正式投產(chǎn):生產(chǎn)最先進的28nm工藝
臺積電日本晶圓廠位于熊本縣附近,將生產(chǎn)N28 28nm級工藝芯片,這是日本目前最先進的半導體工藝。無需EUV光刻機 鎧俠開發(fā)NIL半導體工藝:直奔5nm
據(jù)據(jù)日媒報導,鎧俠從2017年開始與半導體設(shè)備廠佳能,以及光罩、模板等半導體零組件制造商DNP合作,在日本三重縣四日市的鎧俠工廠內(nèi)研發(fā)納米壓印微影技術(shù)(NIL)的量產(chǎn)技術(shù),鎧俠已掌握15nm量產(chǎn)技術(shù),目前正在進行15nm以下技術(shù)研發(fā),預計2025年達成。半導體大廠AMD Q4財報:凈利激增948%,全年營收接近100億美元
1月26日,AMD公布了其2020年第四季度財報&2020年全年財報。凡本站注明“來源:智能制造網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-智能制造網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本站授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:智能制造網(wǎng)”。違反上述聲明者,本站將追究其相關(guān)法律責任。
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