XRF(X 射線熒光)技術
XRF(X 射線熒光)是一種用于測定材料中元素組成的無損分析技術。XRF 技術通過分析可樣品由一級 X 射線源激發而散射出的熒光(或二級)X 射線,來確定樣品的化學屬性。樣品中的每一種元素受激發后都會產生一組特定的熒光 X 射線(“指紋”),因此對于材料化學成分定量及定性分析而言,XRF 光譜法是一種非常好的技術。
X 射線熒光過程
1. 用受控 X 射線管發出的高能 X 射線照射固體或液體樣品。
2. 當樣品中的某個原子被能量充足(大于原子的 K 或 L 殼層結合能)的 X 射線撞擊時,就會從原子的一個內軌道殼層中逐出一個電子。
3. 原子恢復穩定性,并使用來自原子更高能量軌道殼層之一的電子內軌道殼層的空缺。
4. 電子通過釋放熒光 X 射線降至較低能量狀態。該 X 射線的能量等于電子兩個量子態之間的特定能量差。這種能量的測量是 XRF 分析的基礎。
XRF 光譜解讀
大多數原子都有幾個電子軌道(例如 K 殼層、L 殼層、M 殼層)。當 X 射線能量導致電子進出這些殼層時,會產生強度不同的 XRF 峰,并且將以圖表形式在光譜中顯示 X 射線強度峰與能量峰的函數關系。峰能量用于識別元素,峰高度/強度通常表示其濃度。
能量色散 X 射線熒光 (EDXRF)
EDXRF 是便攜式 X 射線熒光分析儀中常用的技術。EDXRF 設計用于同時分析多組元素,以便快速測定樣品中的相應元素及其相對濃度,換句話說,即樣品的元素化學成分。
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