EVOCHEM薄膜產品-疏水材料和濺射靶材

一、EVOCHEM 公司

EVOCHEM Advanced Materials GmbH 自豪地推出其新的產品組合 - 涵蓋純金屬和超純金屬，旨在滿足行業的研發需求。

產品組合涵蓋各種蒸發材料和配件、高效濺射靶材、晶體監測等。

EVOCHEM Advanced Materials 為薄膜應用提供大且全面的材料系列，包括光學和配件、磨損和裝飾涂層、微電子和半導體、光學數據存儲、顯示器和太陽能電池。

濺射靶材，包括濺射靶材鍵合和回收

蒸發材料， 提供 60 多種蒸發材料

PVD 消耗品， 坩堝、舟和細絲

在 6MHz 和 5MHz 下監測 Au、Ag ，合金的晶體

蒸發盤管，為您的金屬化項目

EVOCHEM薄膜產品-疏水材料和濺射靶材為您的個性化應用提供解決方案。高純度蒸發材料有助于實現您想要的涂層特性;其優化的熔煉性能提高了產量。低噴吐特性允許為關鍵應用提供低缺陷涂層。

我們提供用于濺射設備大且全面的材料系列，提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環形、S 型槍和圓形、矩形、三角形和平面目標。

EVOCHEM 還提供用于電子束蒸發器、離子源和熱蒸發器的組件。產品范圍包括坩堝、舟和細絲，這些坩堝、舟和細絲由與蒸發材料和濺射靶材相同的優質材料制成。

EVOCHEM 的純金屬和超純金屬新產品組合幾乎包括從鋁到鋯的金屬。這些金屬的數量和形式范圍很廣，包括粉末、線材、箔、片材、棒材、管材和靶材。提供的純度范圍為 99.00% - 99.999999%。

二、EVOCHEM 薄膜產品

1、 疏水材料-新一代防水防油材料

EVOCHEM的新超疏水產品線（EVOCHEM ETC-TOP，EVOCHEM ETC-PRO，EVOCHEM ETC-PRO UV+ & EVOCHEM ETC-PRO AB+）提供了工藝和薄膜性能。我們開發了復雜的材料，可以減少污垢和指紋在表面上的粘附，同時提高耐磨性。

新的超疏水片劑可以從電阻加熱的船上沉積，也可以通過使用面涂層襯墊的電子束沉積。

主要產品特點：

  防指紋和防污

  超疏水–疏油–超光滑表面

  適用于幾乎全部基材

EVOCHEM ETC 將表面能降至低，因此具有易于清潔的特性。此外，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護。

ETC-產品范圍

產品系列包括ETC-TOP、ETC-PRO、ETC-PRO UV+、ETC-PRO AB+。

EVOCHEM ETC-TOP 代表了我們 ETC 產品系列的入門級質量。高耐磨性和良好的易清潔性能使 ETC-TOP 產品系列成為非常好的疏水表面涂層。

EVOCHEM ETC-PRO 是眼科行業的專用產品線。高耐磨性和易于清潔的表面使其成為眼科公司的best選擇。我們強大的品牌和也將成為您和您的客戶的關鍵差異化因素。

EVOCHEM ETC-PRO UV+

EVOCHEM ETC-PRO UV+ 是我們的納米涂層產品線，具有更高的耐氣候要求。ETC-PRO UV+ 顯著提高了紫外線照射下的耐污性和耐化學性 - 同時保持高度光滑的表面。即使在條件下（600 小時 QUV 和 990 小時氙弧燈），PRO UV+ 涂層物質的接觸角也能保持在 >100°。

EVOCHEM ETC-PRO AB+

EVOCHEM ETC-PRO Abrasion+ 是我們的疏水應用，在整個產品線中具有高的耐用性和光滑性。專用于滿足對優質產品和基材的高要求。ETC-PRO AB+ 涂層基材可實現 >116°的水接觸角。ETC-PRO AB+ 是具有性能要求的納米涂層的即用型應用。

EVOCHEM ETC 片劑非常易于處理以進行沉積。可以從各種電阻加熱舟（由 Mo 或 Ta 制成）以及間接電子束加熱進行沉積。

EVOCHEM 片劑和載體的設計和制造均以實現性能。物理特性允許穩定和受控的涂層工藝，從而實現每次涂層運行的大產量。

EVOCHEM ETC 可以從電阻加熱的舟中蒸發，也可以通過間接電子束加熱蒸發。蒸發溫度范圍為 400 - 800°C（建議 600°C）。將 EVOCHEM ETC 涂布到氧化膜上可獲得最佳效果，尤其是在 SiO2 薄膜（AR 涂層的頂層）上。

應用： EVOCHEM ETC-TOP、EVOCHEM ETC-PRO、EVOCHEM ETC-PRO UV+ 和 EVOCHEM ETC-Pro AB+ 可作為即用型片劑提供，用于熱氣相沉積和電子束工藝，使用面涂層襯墊?；蛘?，涂層可以通過濕化學工藝（浸漬、噴涂、鼓注）完成 - ETC-LIQUID 和 ETC-METAL-LIQUID。

作用方式：ETC 的一端與其分子鏈的一端形成共價、高度穩定的氧化物表面（例如 SiO2），而另一端（全氟化）則遠離表面對齊。因此，ETC 將表面能降至低，因此具有易于清潔的特性。此外，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護。EVOCHEM 的新產品組合已經符合最新的立法要求，其中產品或整個生產過程中均不存在全氟辛烷磺酸 （PFOS） 和全氟辛酸 （PFOA）。

性能： 該材料通過氣相沉積施加在 SiO2 層上，提供 117°的水接觸角。在整個測試過程中，即使在 1 kg 壓力下循環 8000 次后，接觸角也不會低于 105°。ETC-LIQUID - 為手機和觸摸顯示器開發 - 已顯示出更高的耐磨性。盡管表面粗糙度降低了約 85%，但鏡片的成型可以很容易地進行，而無需對生產過程進行任何改變。研磨后，多項測試表明涂層松弛，表面沒有留下“鬼痕”。

綠色生產：藥丸以泡罩包裝提供，每單位 12 片。每個包裝的保質期為 6 個月。此外，我們的載體片劑可以重復使用大約 10 倍，從而進一步減少浪費和成本。

EVOCHEM 在制造過程中不使用或故意添加 PFOA、其鹽類和 PFOA 相關化合物。因此，EVOCHEM 認為此類物質未包含在其產品中。EVOCHEM 有一個系統，可以定期檢查其產品代表性樣品中 PFOA、其鹽類和 PFOA 相關化合物的含量，并可以確認這些樣品符合修訂后的 （EU） No 2020/784 法規。

2、濺射靶材

們提供大且全面的濺射靶材系列。提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環形、S 型槍和圓形、矩形、三角形和平面目標。

大多數濺射靶材可以制造成各種形狀和尺寸。單件結構的尺寸存在一些技術限制。在這種情況下，可以產生多段目標，其中各個段通過對接或斜面接頭連接在一起。

濺射靶材有多種成分、各種純度水平可供選擇，使我們的客戶能夠將靶材與其特定要求相匹配。

與電子束或熱蒸發相比，濺射沉積具有可重復性和更簡單的過程自動化等優點。已經開發了濺射技術的多種變體。通過氧化/氮化濺射金屬離子，可以從金屬濺射靶材上沉積光學薄膜，以沉積所需成分的氧化物或氮化物薄膜層。

直流磁控濺射是用于導電金屬靶材的技術。氧化物（絕緣）濺射靶材可以通過射頻濺射進行濺射，但速率較低。幾乎任何材料合金、混合物、純金屬、氧化物、氮化物、硼化物、碳化物都可以作為濺射靶材提供。

EVOCHEM 提供各種高純度金屬濺射靶材– 純度高達 99.9999%，包括鋁，銻，硼，碳，銪等，可根據客戶需求提供。

EVOCHEM 的產品包含各種氧化物濺射靶材，針對濺射工藝的要求進行了優化。我們的氧化物濺射靶材為光學鍍膜工程師提供了更好的產量、工藝穩定性和更大的設計自由度。

EVOCHEM 提供廣泛的化合物和混合物 – 適合高、中、低折射率薄膜的應用和性能。

物理氣相沉積工藝 （PVD 工藝） 是一種沉積工藝，其中蒸發材料以原子的形式從固體源蒸發，并以蒸汽的形式通過真空或低壓（或等離子體）環境傳輸到蒸汽聚集的基材。

PVD 工藝可用于使用反應沉積工藝沉積元素（蒸發材料）和合金的薄膜。真空沉積是一種 PVD 工藝，其中來自熱汽化源的蒸發材料到達基板，與氣體分子幾乎沒有碰撞。真空沉積用于形成光學干涉涂層、鏡面涂層、裝飾涂層、導電薄膜（也稱為 TCO 薄膜、ITO）、耐磨涂層和防腐蝕涂層。

3、高品質的蒸發材料

EVOCHEM 全面的蒸發材料產品組合為您的個性化應用提供解決方案。高純度蒸發材料有助于實現您想要的涂層特性;其優化的熔煉性能提高了產量。低噴吐特性允許為關鍵應用提供低缺陷涂層。

生產能力使我們能夠定制制造任何所需的形狀和純度，數量從幾克到幾百公斤不等。使用專有涂層機進行持續的質量測試和控制，可實現生產過程。

我們的蒸發材料代表了當今好的涂層材料，這些材料經過加工或專門開發，以滿足科學實驗、產品和工藝開發或全面生產的苛刻要求。

蒸發材料均隨附與所提供批號相關的相應材料數據表 （MSDS）、RoHS 證書和分析證書 （COA）。

我們的產品范圍包括 60 多種蒸發材料，包括混合物和物質，以及氟化物、氧化物、硫化物和金屬，以顆粒、片劑或圓盤形式提供。

EVOCHEM還提供PVD 耗材等。